Réacteurs plasma
PRÉSENTATION DU BANC es réacteurs de traitement de surface URANOS (Unité de Réaction Activée pour la Nitruration et l’Oxydation des Surfaces) et TAPIIR (Thermally Assisted Plasma Ion Implantation…
LIRE LA SUITEElaboration et matériaux
Machines de dépôt
PRÉSENTATION DU BANC L’institut Pprime dispose d’un parc de différents bâtis de dépôts ultra-vide physique en phase vapeur (PVD) permettant la synthèse de couches minces fonctionnelles d’une large…
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Implanteur EATON
DONNÉES TECHNIQUES DU BANC FaisceauEnergie5 – 200 keVDensité de courant10-3 - 20 µA/cm2Source d’ionsFreeman + source de pulvérisationPorte-substrat-96°C, RT -> 800°CSystème de videVide limite : 5x10-7 mbarsIons disponiblesH,…
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